施設利用

供用施設を利用するには

 JRR-3(照射関連) 募集対象の設備
2022年5月から2022年12月までのR4-01~R4-07の7サイクル
No. 設備・装置の種類 装置の概要・条件 担当者・連絡先 備考
1 水力照射設備
(HR-1, 2)
照射時間:10分~1サイクル
キャプセル外形(mm):Φ32×150L
熱中性子束(m-2・s-1):
HR-1 9.6×1017
HR-2 9.8×1017
利用施設管理課
坂田 茉美
TEL: 029-282-5591
RI製造・放射化分析
2 気送照射設備
(PN-1, 2)
照射時間:1分~20分
キャプセル外形(mm):Φ33×95L
熱中性子束(m-2・s-1):
PN-1 5.2×1017
PN-2 4.7×1017
放射化分析
3 放射化分析用照射設備
(PN-3)
照射時間:5秒~20分
キャプセル外形(mm):Φ17×30L
熱中性子束(m-2・s-1):1.5×1017
放射化分析
4 回転照射設備
(DR-1)(*)
照射時間:1サイクル~
キャプセル外形(mm):
Φ130×1000L, Φ34×150L
熱中性子束(m-2・s-1):3.0×1017    
燃料・材料照射
5 垂直照射設備
(VT-1, RG-1~4, BR-1~4, SH-1)(*)
照射時間:1サイクル~
①キャプセル外形(mm)及び②熱中性子束(m-2・s-1):
VT-1
①Φ55×900L, Φ34×150L ②3.0×1018
RG-1~4
①Φ55×900L, Φ34×150L ②2.0×1018
BR-1~4
①Φ40×900L, Φ34×150L ②2.0×1018
SH-1
①Φ90×1000L, Φ34×150L ②4.0×1017
燃料・材料照射
6 均一照射設備
(SI-1)
照射時間:1時間 ~ 1サイクル
キャプセル外形(mm):φ160×740L
熱中性子束(m-2・s-1):2.0×1017    
半導体製造

* 過去に実績のある定常実施の照射(例:RI製造)を想定したキャプセル設計、製作及び炉内照射は、令和4年度から開始します。
それ以外の照射(例:新規の材料照射)を想定したキャプセル設計、製作及び炉内照射は、令和5年度から段階的に開始する計画です。