特許・実用新案閲覧システム

〜詳細表示〜

管理番号1 6115
管理番号2 A0221
発明の名称 高精度3次元照射用ペンシル型のイオンビーム形成法
特実区分 P
出願番号 2002-358919
公開番号 2004-192931
登録番号 4362569
IPC番号 G03F:H01J:H01L
満了  
拒絶  
グループ  
要約 従来のマイクロビーム形成装置は、高エネルギーイオンでマイクロビームを形成するときに、両コリメーター等で発生する散乱イオンによるビームサイズの拡大やエネルギー幅の増大、2次荷電粒子、ガンマ線、中性子線などの放射線による照射損傷の影響を排除することが困難であった。
PDF PDF
データベースリンク